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Application examples of materials micronization for Electronics

  1. Alumina
  2. Silica
  3. Tungsten carbide
  4. Graphite
  5. Silicon carbide
  6. Metal oxide
  7. Biomass material (Cellulose)

* The magnifications of microscope images before and after processing are not always the same.

1. Alumina

  • 10 passes
  • Pressure: 245MPa
    写真: アルミナ前   写真:アルミナ後
        Before: 27 μm           After: 3 μm

 


2. Silica

  • 10 passes 
  • Pressure: 98MPa
    写真: シリカ前   写真: シリカ後
        Before: 30 μm            After: 2 μm

 


3. Tungsten carbide

  • 3 passes
  • Pressure: 137MPa
    写真: タングステン前   写真: タングステン後
        Before: 10 μm            After: 0.5 μm

 


4. Graphite

  • 7 passes
  • Pressure: 147MPa
    写真: 黒鉛 前   写真: 黒鉛後
        Before: 30 μm           After: 0.5 μm

 


5. Silicon carbide

  • 3 passes
  • Pressure: 245MPa
    写真: 炭化ケイ素前   写真: 炭化ケイ素後
        Before: 20 μm            After: 1 μm

 


6. Metal oxide

  • 5 passes
  • Pressure: 196MPa
    写真: 金属酸化物前   写真: 金属酸化物後
       Before: 200 μm           After: 0.2 μm

 


7. Biomass material (Cellulose)

  • 10 passes
  • Pressure: 200MPa
    写真: セルロース処理前   写真: セルロース処理後
        Before: 100 μm      After: 10~50nm (fiber diameter)