Anwendungsbeispiele für das Pulverisieren von Materialien für den Elektronikbereich

1. Aluminiumoxid
2. Siliciumdioxid
3. Wolframcarbid
4. Graphit
5. Siliciumcarbid
6. Metalloxide
7. Biomasse (Cellulose)

* Die Vergrößerung der Mikroskopaufnahmen vor und nach der Anwendung kann differieren.

1. Aluminiumoxid

• Durchläufe： 10
• Druck： 2450 bar
  
  　　　　Vorher: 27 µm 　　　　　　　　　　　Nachher： 3 µm

2. Siliciumdioxid

• Durchläufe: 10
• Druck: 980 bar
  
  　　　　Vorher: 30 µm　　　　　　　　　 　　　Nachher: 2 µm

3. Wolframcarbid

• Durchläufe: 3
• Druck: 1370 bar
  
  　　　　Vorher: 10 µm　　　　　　　　　　　　Nachher: 0,5 µm

4. Graphit

• Durchläufe: 7
• Druck: 1470 bar
  
  　　　　Vorher: 30 µm　　　　　　　　　　　　Nachher: 0,5 µm

5. Siliciumcarbid

• Durchläufe: 3
• Druck: 2450 bar
  
  　　　　Vorher: 20 µm 　　　　　　　　　　　　Nachher: 1 µm

6. Metalloxide

• Durchläufe： 5
• Druck： 1960 bar
  
  　　　　Vorher: 200 µm　　　　　　　　　　　Nachher: 0,2 µm

7. Biomasse (Cellulose)

• Durchläufe： 10
• Druck： 2000 bar
  
  　　　　Vorher: 100 µm　　　　　　　　　　　Nachher: 0,01-0,05 µm (Faserdurchmesser)