【展示会】第12回化粧品開発展[東京展] 出展のお知らせ

スギノマシンは、第12回化粧品開発展[東京展]へ、貴社のお役に立つ多彩な商品を出品いたします。

ご多用中のこととは存じますが、是非ご来場賜りますようお願い申し上げます。

>> 展示会公式サイトはこちらです。

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見どころ

■処理原料の一例

最高245MPaに加圧した原料を、斜向衝突またはセラミックスボールに衝突させ、分散・乳化・粉砕・表面改質を行う湿式微粒化装置です。

顔料、無機粒子の分散や、ナノ乳化に効果を発揮します。

原　料：酸化チタン

溶　媒：水

圧　力：245MPa

処理前：2㎛

処理後：0.065㎛

原　料：セラミド

圧　力：100MPa

透過率測定

処理前：50％

処理後：76％

乳化性能に優れるスターバースト用チャンバーを新たにラインアップしました。

液体原料の乳化に特化したチャンバーであり、特に化粧品の各種オイルや食品の乳化におすすめです。

乳化をより早く、より細やかにできますので、生産効率アップや新製品開発に貢献いたします。

特徴

用途例

当社独自の超高圧技術で製作した、セルロース・キチン・キトサン・カルボキシメチルセルロース（CMC）・シルクのナノファイバーです。異なる繊維長タイプ､トライアルセットなどもラインアップしています｡

特徴

短時間、少量添加での乳化効果

油　　剤：オリーブオイル

割　　合：水：油剤＝70：30

処理条件：ラボミキサー 8300rpm　1分

特徴

少量添加でのケーキング防止効果

条　　件：0.1wt% BiNFi-s分散液に顔料添加

材　　料：平板状無機顔料

処理条件：5回転倒混和

特徴

TiO₂のような高比重の無機粒子でも

低濃度で分散できます

特徴

油種の油剤選択性が広く、

プロペラ撹拌機で作製できます

会　　期	2022年1月12日（水）～14日（金）
開場時間	10時00分～18時00分（最終日のみ17時00分まで）招待券をお持ちの方は無料（公式サイトで事前にお申込みいただけます）招待券をお持ちでない場合、入場料 5,000円
会　　場	東京ビッグサイト東4～6ホール >>アクセス (別ウィンドウが開きます）
当社小間	2-15